クラスターイオンビーム基礎と応用: 次世代ナノ加工プロセス

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クラスターイオンビーム基礎と応用: 次世代ナノ加工プロセス出版社‎日刊工業新聞社 (2006/10/1)発売日‎2006/10/1言語‎日本語単行本‎223ページ内容説明本書は、イオンビーム技術の発展を、その技術的背景もあわせて示しながら、イオンビーム技術に初めて接する初心者にもわかりやすく説明しています。目次１　イオンビーム技術の概要（イオンの発見；イオンビーム技術の誕生　ほか）２　ガスクラスタービームの発生（ガスクラスタービームの発生の原理；ガスクラスターイオンビーム装置　ほか）３　クラスターイオンビームと固体表面相互作用（クラスターイオンの個体表面衝突現象；ガスクラスターイオンの照射効果の特長　ほか）４　ナノ加工プロセス応用（半導体デバイス応用；磁性・誘電体デバイス応用　ほか）５　産業用クラスターイオンビーム装置（ガスクラスターイオンビーム装置；デカボランイオン注入装置）

カテゴリー	本・雑誌・漫画>>>本>>>コンピュータ・IT
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